Danes je Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. poslal cilj Tantalum. Cilj Tantalum je velik, z izvrstno proizvodno tehnologijo in gladko in svetlo površino. Cilj ima visoko ravnost in zelo ravno površino. Čistost površine je velika in na površini ni olja, prahu in oksida.
Yusheng Metal lahko uporabi različne procese za izdelavo ciljev v skladu z zahtevami kupcev.
Način taljenja vakuuma:
Postopek: Talino kovine Tantalum v vakuumskem okolju.
Prednosti: Izogibajte se oksidaciji in nečistočam, da zagotovite visoko čistost cilja.
Vroča tehnologija ISOSTATITNEGA PRIKLJUČEK:
Postopek: Uporabite visoko temperaturo in visok tlak, da v tarčo zgostite prah tantaluma.
Prednosti: proizvajajo visoko gostoto in enakomerno ciljno strukturo.
Metoda taljenja elektronskih žarkov:
Značilnosti: Za taljenje kovine Tantalum uporabite elektronski žarek.
Prednosti: Proces taljenja je mogoče natančno nadzorovati za izboljšanje enakomernosti in čistosti cilja.
Tehnologija plazme spin premaz:
Značilnosti: s pomočjo plazemske tehnologije položite material Tantalum na vrteči se substrat.
Prednosti: Sposobnost izdelave ciljev s posebnimi mikrostrukturi za posebne aplikacije.
