Tantalova zlitina - 111

Baoji Yusheng Metal proizvaja predvsem volfram, molibden, tantal, niobij, cirkonij, krom, titan, nikelj, vanadij, kobalt, hafnij in njihove zlitine v obliki plošč, listov, trakov, folij, palic, žic, cevi in ​​drugih konvencionalno obdelanih profili, kot tudi čolni, lončki, tarče za razprševanje, tarče za nanos, strojno obdelani deli, izolacijski zasloni za visokotemperaturne peči, grelni elementi, telesa peči (peči za ogrevanje, peči za žarjenje), oprema, odporna proti koroziji, in drugi izdelki za globoko obdelavo. Izdelki se večinoma uporabljajo na področju peči za safirne kristale, vakuumske peči, peči za monokristalni silicij, polprevodniške ionske implantacije, brizganja kovinskega prahu, vakuumskega premaza, visokotemperaturne peči, steklenih vlaken, metalurgije, petrokemične, vesoljske, farmacevtske, medicinske opreme, prehrambena, pomorska, avtomobilska, gradbena, industrijska keramika, okoljevarstveni inženiring in druge industrije. Naši izdelki so bili naprodaj po vsem svetu, vključno z Združenimi državami, Japonsko, Nemčijo, Avstralijo, Kanado, jugovzhodno Azijo in drugimi regijami.

Učinki sestave zlitine pri zmanjševanju težav s krhkostjo v tantalovi zlitini T-111

Raziskani so bili temeljni vzroki krhkosti zaradi staranja v tantalovi zlitini - 111 in vpliv spremembe zlitine. Rezultati razkrivajo, da ima T-111 ključno razmerje volframa in hafnija, zaradi katerega se duktilnost zmanjša pri -196 C po staranju pri temperaturah okoli 1040 C. Ugotovljeno je bilo, da se to zgodi, ker volfram spodbuja ločevanje hafnija na meje zrn, kar poveča občutljivost na vodikovo krhkost. Tantalove zlitine z nižjimi koncentracijami volframa ali hafnija niso pokazale starajoče se krhkosti; kljub temu ima večina preučevanih zlitin nižje trdnosti kot T-111 in so dovzetne za vodikovo krhkost.

Pri 820 in 990 C je bil doveden kisik pri tlaku okoli.0003 torr. Metoda je omogočila predvidljivo in ponovljivo dopiranje tantalove zlitine s kisikom. (T-111). Glede na temperaturno odvisnost reakcije dopinga je raztopina kisika v rešetki T-111 najverjetneje tista, ki uravnava prve stopnje privzema kisika. V dopiranih vzorcih prevladujeta tantalov in volframov oksid, verjetno zaradi večjih količin tantala in volframa v zlitini, kljub dejstvu, da so hafnijevi oksidi bolj stabilni od tantalovih ali volframovih. Vendar pa visokotemperaturno žarjenje spodbuja tvorbo hafnijevih oksidov s spodbujanjem oksidacije drugih oksidov in raztopljenega kisika.